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Intel自曝：3nm工艺良率、性能简直完美！，intel 1nm(附2023年最新排行榜前十名单)

2023-07-31 08:43:19 全球排行榜123网 品牌

 

Intel自曝：3nm工艺良率、性能简直完美！，intel 1nm(附2023年最新排行榜前十名单)：大家好！今天让小编来大家介绍下关于Intel自曝：3nm工艺良率、性能简直完美！的问题，以下是酷知号的小编对此问题的归纳整理，让我们一起来看看吧。Intel将在下半年发布的Mete……全球排行榜123网（www.vai8.com）小编为你整理了本篇文章，希望能解对你有所帮助！

 

大家好！今天让小编来大家介绍下关于Intel自曝：3nm工艺良率、性能简直完美！的问题，以下是酷知号的小编对此问题的归纳整理，让我们一起来看看吧。

Intel自曝：3nm工艺良率、性能简直完美！

Intel将在下半年发布的Meteor Lake酷睿Ultra处理器将首次使用Intel 4制造工艺，也就是之前的7nm，但是Intel认为它能达到4nm级别的水平，所以改了名字。

再下一步就是Intel 3，也就是早先的5nm，号称能效可提升18％。

Intel CEO帕特·基辛格近日披露，Intel 3工艺在今年第二季度就达成了缺陷密度、性能的里程碑，将如期达到良率、性能的整体目标，明年上半年首先应用于Sierra Forest(首次纯小核设计)，紧接着很快就会用于Granite Rapids(纯大核)。

Sierra Forest、Granite Rapids应该都会划入第六代可扩展至强序列，而今年底还有个第五代的Emerald Rapids，制造工艺和现在的第四代Sapphire Rapids一样都是Intel 7。

Intel 3工艺似乎不会用于消费级产品，至少目前没看到相关规划，它更多针对数据中心产品优化。

多次曝光的Granite Rapids

再往后的Arrow Lake，将会首次引入Intel 20A工艺，也就是相当于2nm级别。

基辛格表示，Intel 20A工艺将第一次使用RibbonFET、PowerVia技术，大规模用于消费级产品，目前正在晶圆厂内进行第一步。

就在不久前，Intel宣布，率先在代号为“Blue Sky Creek”产品级测试芯片上实现了背面供电技术。

该技术能显著提高芯片的使用效率，同时晶体管体积大大缩小，单元密度大大增加，因此能显著降低成本，还将平台电压降低了30％，并带来了6％的频率增益。

以上就是小编对于Intel自曝：3nm工艺良率、性能简直完美！问题和相关问题的解答了，Intel自曝：3nm工艺良率、性能简直完美！的问题希望对你有用！

 

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